Caratteristica

● Temperatura massima RT-1200 gradi

● Tipo di forno diviso, è possibile aprire il forno.

● Può introdurre più di 2 canali di gas, con un grado di vuoto di 10 Pa utilizzando una pompa meccanica e un alimentatore RF da 500 W per migliorare il segnale.

● Materiali isolanti in fibra ceramica di allumina ad alte prestazioni e di alta qualità

● Precisione del controllo della temperatura ±1 grado

● Con funzione di allarme di sovratemperatura

● La ventola di raffreddamento può ridurre la temperatura dell'involucro

Modello	SK2-CVD-12TPB4
Dimensioni: Lunghezza zona di riscaldamento standard (mm)	440mm
Dimensioni: Diametro tubo standard (mm)	∮60mm
Temperatura massima	1200 gradi, temperatura di lavoro continua 1100 gradi.
Tensione (V)	220 1P
Tipo di termocoppia	K
Termosifone	Filo di resistenza in lega HRE
Temp.Precision	±1 grado
Tasso di riscaldamento	0-30 gradi/min regolazione libera
Materiale della camera	Utilizzo di materiale in fibra microcristallina di allumina di alta qualità avanzata
Struttura della fornace	Struttura raffreddata ad aria a doppio strato, la temperatura superficiale è inferiore a 60 gradi
Regolatore di temperatura	Strumento di controllo intelligente della temperatura PID, 30 segmenti di programma, controllo SSR, funzione di auto-regolazione dei parametri PID; aumento della temperatura del programma, conservazione del calore del programma, raffreddamento del programma
Alimentatore RF da 500 W	Potenza di uscita: 5-500W ±1 grado Frequenza RF: 13,56 MHz ±0.005% Potenza riflessa: fino a 100W Corrispondenza: Automatica Interfaccia RF: 50Ω, tipo N Raffreddamento: raffreddamento ad aria Alimentazione: AC 208-240V, 50/60HZ
Sistema di flusso di precisione a 4 canali di gas	1. Portata a fondo scala (5, 10, 30, 50, 100, 200, 300, 500) ML/min. 10 L/min. 2. Tipo di valvola: elettrovalvola. 3. Posizione di riposo della valvola: normalmente chiusa. 4. Pressione differenziale: (50-300)kpa 5. Resistenza alla pressione: 3mpa. 6. Temperatura di funzionamento: 5-45 gradi 7. Materiali: acciaio inossidabile 316L.
Sistema di vuoto	5*10-3Pa KF25 attacco rapido, soffietto in acciaio inox, valvola a battente manuale e flangia, pompa per vuoto Opzionalmente è possibile dotare il veicolo anche di sistemi a vuoto più elevato.
BENVENUTI OEM/ODM

Accessori standard

Opzionale

Diverse zone di riscaldamento tra cui scegliere;

Controllo touch screen LCD per la scelta

Porta RS485/USB per collegare il computer a scelta.

Immagine dettagliata per CVD-PECVD

Alimentatore RF da 500 W

Sistema di vuoto

Sistema di flusso di precisione a 4 canali di gas

Applicazione

Questo dispositivo viene utilizzato principalmente per la crescita di nanofili o per preparare vari tipi di crescita di film sottili utilizzando il metodo CVD.